دانلود پاورپوینت کامل شناخت  کاربردهای الکتروفورتیک

\n

الکتروفورتیک و خوردگی

\n

\n

عنوان های پاورپوینت  : 

\n

\n

شناخت  کاربردهای الکتروفورتیک

\n

الکتروفورتیک و خوردگی

\n

الکتروفورتیک چیست؟

\n

مکانیزم های باردار نمودن ذرات سرامیکی در یک مایع

\n

تاریخچه الکتروفورتیک

\n

مدل الکتریکی فرآیند EPD

\n

مزایای الکتروفورتیک

\n

محدودیت الکتروفورتیک

\n

کاربردهای الکتروفورتیک

\n

عوامل موثر بر EPD

\n

انواع نشست الکتروفورتیک

\n

روابط ریاضی مربوط به الکتروفورتیک

\n

اثر اندازه ذره

\n

اثر ثابت دی الکتریک مایع

\n

اثر هدایت الکتریکی سوسپانسیون

\n

اثر ویسکوزیته سوسپانسیون

\n

اثر پتانسیل زتا

\n

اثر پایداری سوسپانسیون

\n

اثر زمان نشست

\n

اثر ولتاژ اعمالی

\n

اثر غلظت جامد در سوسپانسیون

\n

اثر هدایت الکتریکی زیرلایه

\n

معضل وجود زیرلایه فلزی

\n

الکتروفورتیک و خوردگی

\n

نتایج

\n

منابع

\n \n\nقسمت ها و تکه های اتفاقی از فایل\n\n \n\nمکانیزم های باردار نمودن ذرات سرامیکی در یک مایع\n\nوقتی یک ذره ی سرامیکی در یک محیط مایع قرار دارد، از طریق 4 مکانیزم زیر باردار می شود:\n\nجذب انتخابی یون های موجود در مایع بر روی ذرات جامد  جدا شدن یون ها از فاز جامد و ورود آنها به داخل مایع  جذب یا جهت گیری مولکول های قطبی در سطح ذره\n\nمدل الکتریکی فرآیند EPD\n\nبا استفاده از یک سلول استاندارد الکتروشیمیایی، یک مدل مقاومتی- خازنی می تواند رفتار الکتریکی فرایند EPD\n\nنیاز به تجهیزات ساده تنوع در شکل زیرپایه\n\nعدم نیاز به چسب تنظیم ضخامت و مورفولوژی فیلم نشست داده شده از طریق تنظیم زمان نشست و پتانسیل\n\nقابلیت استفاده از مواد و ترکیبات مختلف\n\nامکان تولید ساختارهای میکرویی و نانویی\n\nامکان تولید اشکال شبه شبکه ای با دقت ابعادی بالا امکان تولید رسوبات متخلخل، لایه لایه و هدفمند\n\nامکان تولید مواد نانوکامپوزیتیمحدودیت الکتروفورتیک\n\nمحدودیت این روش، عدم توانایی استفاده در آب به عنوان واسطه است؛ زیرا اعمال ولتاژ به آب باعث ایجاد گازهای اکسیژن و هیدروژن در الکترود می گردد و بر کیفیت لایه نشست داده شده اثر منفی قرار دارد. اما با وجود حلال های غیر آلی فراوان و دردسترس این محدودیت برطرف می گردد.\n\nبرای برخی از کاربردها، یکی از ملزومات این است که رسوبات سرامیکی تولیدی با روش EPD، دانسیته ی بالایی داشته باشد بنابراین، یک عملیات ثانویه باید بر روی پوشش اعمال شود تا بدین صورت، دانسیته افزایش یابد. معمولا، این عملیات ثانویه شامل یک عملیات حرارتی معمولی در کوره می باشد اما برخی مشکلات می تواند در طی عملیات حرارتی ایجاد شود. این مشکلات، عبارتند از جدایش لایه ی سرامیکی از زیرلایه، ترک خوردن یا ایجاد تنش های باقیمانده به دلیل تفاوت در ضرایب انبساط حرارتی. علاوه بر این، دمای زینترینگ بالای سرامیک ها می تواند موجب تخریب زیرلایه شود.\n\nبرخی اوقات، دمای زینترینگ می تواند با افزودن برخی افزودنی های کمک ذوب، کاهش یابد. روش های زینترینگ دیگری نیز می تواند برای کاهش این مشکلات، مورد استفاده قرار گیرد. این روش ها عبارتند از زینترینگ با میکروویو، لیزر یا باریکه ی الکترونی.\n\nساخت فیلم های عملگر برای وسایل میکروالکترونیک پیشرفته، پیل سوختی اکسید جامد، کامپوزیتهای جدید با پوشش های بیوفعال برای ایمپلنت های پزشکی، ساخت مواد عملگر در مقیاس نانو، ممبران زئولیت نانو سایز، فیلم های فوق رسانایی با TC بالا، سنسورها، الکترودهای نفوذ گاز، کامپوزیت های چندلایه، کامپوزیت های زمینه سرامیکی و شیشه ای توسط فیلتر شدن ذرات سرامیکی بر پارچه های فیبری، نانو میله های اکسیدی، فیلم نانوتیوب کربنی، سرامیکهای لایه دار، فوق رساناها، مواد پیزوالکتریک، بیومواد، وسایل نوری و...\n\nعوامل موثر بر EPD\n\nمتغیرهای موثر بر سوسپانسیون:اندازه ذره، ثابت دی الکتریک مایع، هدایت الکتریکی سوسپانسیون، ویسکوزیته مایع و پتانسیل زتا\n\n \n\nمتغیرهای مربوط به فرآیند:\n\nاثر زمان فرایند EPD ، ولتاژ اعمالی، غلظت جامد در سوسپانسیون و هدایت الکتریکی زیرلایه\n\nانواع نشست الکتروفورتیک\n\nدو نوع نشست الکتروفورتیک بسته به تشکیل   نشست بر سطح دو الکترود، کاتد و آند وجود دارد که به ترتیب نشست الکتروفورتیکی کاتدی و آندی نامیده می شود.\n\nروابط ریاضی مربوط به الکتروفورتیک\n\nحاصل آخرین تحقیقات معادله زیر است که توسط  Ishihara و همکارانش حاصل شده است:\n\n \n\n \n\nw وزن نشست، 0 ε گذر دهی خلا،  εr گذر دهی نسبی حلال، C غلظت ذره، ζ پتانسیل زتا ذرات، η ویسکوزیته حلال، E پتانسیل اعمالی، L فاصله بین الکترود، t زمان نشست است.\n\nبا ثابت بودن تجهیزات EPD و نوع ماده، فاکتورهای ζ ،r ε، η و L در معادله فوق ثابت است، در نتیجه وزن ذرات نشست داده شده (w) در روش فوق تابع E ، C و t  خواهد   بود. بنابراین جرم ذرات نشست داده شده یعنی ضخامت فیلم به آسانی می تواند توسط غلظت سوسپانسیون، پتانسیل اعمالی و زمان نشست در روش EPD کنترل شود.\n\nمهمترین نکته در مورد ذرات، پخش کامل آنها در مایع است که برای تشکیل نشست صاف و هموژن ضروری است. در صورتی که ذرات بزرگتر باشند، مشکل تمایل به نشست در اثر نیروی وزنشان وجود دارد. در حالت ایده آل باید موبیلیته ذرات در اثر الکتروفورتیک بیشتر از موبیلیته در اثر شتاب گرانش زمین باشد.\n\nهمچنین کاهش اندازه ذره تکنیک مفیدی برای کاهش ترک خوردن لایه نشست می باشد.\n\nاثر ثابت دی الکتریک مایع\n\nثابت دی الکتریک مایع اثر دوگانه ای بر نشست نشان می دهد. در ثابت دی الکتریک بسیار کم، نشست به دلیل قدرت انحلال ناکافی انجام نمی شود و در ثابت دی الکتریک بالا، غلظت یونی بالایی در مایع در ضخامت لایه مضاعف ایجاد می شود و در نتیجه موبیلیته الکتروفورتیک کاهش می یابد.\n\nثابت دی الکتریک عموما حاصلضرب ثابت دی الکتریک نسبی و خلاء می باشد. ثابت دی الکتریک نسبی و ویسکوزیته برخی حلالها در جدول زیر آمده است\n\nاثر هدایت الکتریکی سوسپانسیون\n\nنکته مهم در این حالت این است که اگر سوسپانسیون بسیار رسانا باشد، حرکت ذرات بسیار کند خواهد بود و اگر سوسپانسیون مقاومت الکتریکی بالایی داشته باشد، پایداری سوسپانسیون از بین خواهد رفت.\n\nدر مورد تاثیر هدایت در EPD تنها رنج باریکی وجود دارد که در آن لایه گذاری توسط EPD میسر می گردد.\n\nبدست آوردن این ناحیه ی مناسب از رسانایی برای سیستم های مختلف، دشوار است. همچنین مساحت ناحیه ی رسانایی مناسب برای EPD را می توان با اعمال جریان، افزایش داده، میزان موفقیت فرایند EPD را افزایش داد.\n\n \n\n \n\n30 تا 70 درصد پروژه | پاورپوینت | سمینار | طرح های کارآفرینی و  توجیهی |  پایان-نامه |  پی دی اف  مقاله ( کتاب ) | نقشه | پلان طراحی |  های آماده به صورت رایگان میباشد ( word | pdf | docx | doc )